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分子泵使用中有哪些注意事项？2.一文了解分子泵在半导体行业的应用3.如何科学地获得超高真空？4.国际热核聚变试验堆（ITER）的真空结构5.一千多台样泵用于各项测试，仅选很优方案，揭秘新型分子泵测试方法；真空聚焦真空行业新媒体平台：涡轮分子泵应用于质谱系统分子泵应用于紧凑型质谱系统。

质谱分析是指与质谱分析相结合的一种核分析技术,用于实现同位素比值的测定.需要清洁无油的高真空环境,一般采用干泵配备涡轮分子泵实现高真空环境.质谱系统需要分子泵抽真空原因:1.电子加速运动的需要;2.电子正常工作的需要;3.加速管微波电场的需要(避免加速管中出现微波打火,必须抽到高真空). 中科院某大型科技工程项目,工程的主体建筑是三大:一台150MeV（1.5亿电子伏特）的电子直线、一台能在0.5秒内把电子束能量从150MeV提升到3.5GeV（35亿电子伏特）的量增强器，以及一台周长432米的3.5GeV电子储存环，

经过技术推荐，成功采购爱发科涡轮分子泵和干泵，涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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涡轮分子泵与油扩散泵相比具有启动快,有机蒸汽污染少和极限真空高等特点.因此在氦质谱检漏仪中采用分子泵作为高真空系统,即使检漏仪不用液氮冷阱,质谱室也不致严重沾污,并能保持较低的本底或杂声.这有利于氦质谱检漏仪的灵敏度和稳定性的提高,并且延长离子源的使用寿命.

氦质谱检漏仪质量范围很宽，不仅可检测氦气，而且能检测其它气体。分子泵排气系统取代扩散泵排气系统，不仅解决了油蒸气对质谱室的污染问题，而且对快速启动仪器和快速停机做出了很大贡献。氦质谱检漏仪中没有手动阀，现已采用自控阀自动调节运转时的误差。同时用涡轮分子泵取代了油扩散泵，以消除可能造成的油返流。计算机技术也在检漏仪中获得应用。运转、控制和输出数据均由计算机自动操作完成。

我们都知道，旋转机械的不平衡是引起振动的常见原因之一，由此产生的振动力取决于旋转速度以及不平衡的程度。而在高速旋转的机械中，不平衡则是非常严重的问题。尤其对转子速度高达90000rpm（1500rpm/sec）的涡轮分子泵而言，对于动平衡品质的要求极高，哪怕是几毫克范围内轻微的不平衡，都会对泵的运行产生重大影响。因此，涡轮分子泵的转子需要做精密的动平衡，品质好的动平衡既关系到转子的平稳运行，也关系到涡轮分子泵的磨损，还可确保将传递到真空腔室和用户应用系统上的振动降至很低。

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